CAS 54140-58-8|4-ビフェニリルメチルアクリレート

チャレンジ：高度なフォトレジストには、高屈折率、良好な膜形成特性、および PGMEA ベースのキャスティング溶媒との適合性を備えたモノマーが必要です。

解決策: 抑制剤レベルが制御された高純度の 4-ビフェニリルメチル アクリレート。

結果：良好な密着性と高い屈折率を備えた透明で均一な膜で、KrF/ArF 互換のレジスト配合や光パターニングに適しています。

ビフェニル基は、重合フィルムに標準的なアクリル酸アルキルよりも高い屈折率を与えます。光学コーティング、反射防止層、マイクロ光学素子に使用されます。

より高い屈折率と改善された熱安定性が求められる UV 硬化システムの反応性希釈剤またはコモノマーとして使用されます。

芳香族側鎖、制御された屈折率、熱安定性を必要とする機能性ポリマーの構成要素として使用されます。

GC 純度を含むバッチ固有の分析証明書、¹H NMR、および阻害剤レベル。

アクリレートモノマーの安全な取り扱い、保管、輸送に関する安全データシート。

金属イオンのデータ、抑制剤のカスタマイズ、溶媒の適合性、またはバルク量について話し合います。

100g/1kg/25kg。不活性ガスブランケットを備えた琥珀色のガラスまたは HDPE 容器。カスタム数量も利用可能です。

サンプルの国際速達;大量注文の場合は航空または海上輸送。在庫のある商品は 3 ～ 7 営業日で発送されます。世界的な輸出。

GC および NMR データを含む COA、SDS、商業送り状、パッキングリスト。 HSコードはリクエストに応じて提供されます。

不活性雰囲気下、遮光して 2 ～ 8 度で保管してください。自己重合を防ぐために MEHQ 阻害剤が存在します。

各バッチは GC によって純度がテストされ、¹構造確認のための H NMR。 COA はバッチ固有です。

MEHQ レベルは、配合要件に合わせて 100 ～ 200 ppm の範囲で調整できます。

半導体関連用途では、ご要望に応じて金属イオン分析（Na、K、Fe、Cu）も手配可能です。

100g の研究開発サンプル、1kg のパイロット数量、および 25kg の大量注文。在庫のある商品は 3 ～ 7 営業日で発送されます。

フォトレジスト配合、光学コーティング、UV硬化型接着剤、および機能性ポリマー合成における高屈折率アクリレートモノマーとして使用されます。

純度は GC により 97% 以上です。各バッチも次のように確認されます。¹H NMR。 COA はバッチ固有です。

MEHQ は 100 ～ 200 ppm で存在します。ご要望に応じてレベルをカスタマイズできます。ご注文時に対象をご指定ください。

半導体関連用途では、金属イオン分析（Na、K、Fe、Cuなど）もご要望に応じて承ります。ご要望を明記してください。

不活性雰囲気下、遮光して 2 ～ 8 度で保管してください。 MEHQ 阻害剤は、保管中の自己重合を防止します。

標準の最小パックは100gです。カスタム数量も利用可能です。お問い合わせあなたの特定の要件に合わせて。

PGMEA、シクロヘキサノン、乳酸エチル、DMF、DMSOに可溶。一般的なフォトレジスト溶媒系に適しています。

はい。関連モノマーのカスタム合成やバルク供給についてもご相談いただけます。お問い合わせの際は、ターゲット仕様をお知らせください。